Forno di sinterizzazione per zirconia ad alta capacità HSF200

Forno di sinterizzazione per zirconia ad alta capacità HSF200

Caratteristiche principali (leggibile + ottimizzato per SEO)

  • Vassoio a doppio strato – sinter 60–80 unità di zirconia in un ciclo

  • Temperatura massima 1600°C – compatibile con tutti i materiali in zirconia

  • Sistema a combustione di fase PID + SCR – controllo del riscaldamento stabile e preciso

  • Funzionamento remoto WiFi – monitorare e regolare i cicli di accensione ovunque

  • LCD True-Color da 7 pollici – interfaccia grafica intuitiva

  • Oltre 100 cicli di sinterizzazione programmabili – piena flessibilità

  • Modalità di riscaldamento rapido 40°C/min

  • Protezione da termocoppia e surriscaldamento – funzionamento sicuro senza sorveglianza

  • Alloggiamento moderno e compatto – si adatta a qualsiasi laboratorio odontotecnico professionale

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Introduzione

IL Forno di sinterizzazione per zirconia ad alta capacità Hocera HSF200 è progettato per laboratori odontotecnici che richiedono la massima dimensione del lotto, stabilità affidabile e controllo preciso della temperatura. Con un temperatura massima reale di 1600°C, UN vassoio ad alta capacità a doppio strato, e un Sistema di controllo a fase PID + SCR, l'HSF200 fornisce risultati di zirconia completamente cristallizzati e uniformi, anche in carichi di lavoro pesanti Da 60 a 80 unità per ciclo.

Suo Schermo LCD touchscreen a colori reali da 7 pollici, monitoraggio remoto WiFi integrato, E Oltre 100 cicli programmabili rendono l'HSF200 ideale per i laboratori digitali ad alto volume che cercano sia prestazioni che efficienza.
Che si tratti di zirconia a contorno completo, dischi multistrato o strutture, l'HSF200 garantisce una distribuzione stabile della temperatura, protezione di sicurezza automatica e modalità di riscaldamento flessibili per flussi di lavoro di sinterizzazione sia rapidi che standard.


Descrizione

L'HSF200 unisce una potenza di fuoco di livello industriale a un controllo digitale avanzato.
Suo termocoppia di tipo B, l'algoritmo di regolazione PID e la potenza in uscita controllata da SCR garantiscono un superamento minimo della temperatura e una distribuzione uniforme del calore in tutta la camera.

Il vassoio a doppio strato offre raddoppiare la produzione dei forni convenzionali, consentendo ai laboratori di elaborare più unità per ciclo, ridurre i costi operativi e migliorare la produttività giornaliera.

Dalla sinterizzazione in batch alla cristallizzazione di precisione della zirconia, l'HSF200 unisce precisione, durata e intelligenza in un unico forno professionale.

Articolo Valore
Dimensioni della camera Φ100 × H90mm
Temperatura massima 1600°C (<2 ore)
Gamma operativa 800–1600°C
Precisione ±3°C
Sistema di controllo PID + SCR (a combustione di fase)
Archiviazione del programma 100+
Modalità di riscaldamento Veloce / Normale
Riscaldamento rapido ≤40°C/min
Normale ≤23°C/min
Peso 85 kg
Dimensioni 400 × 550 × 860 mm
Voltaggio 220V 50/60Hz
Schermo Schermo touch screen a colori da 7"
Sensore termocoppia di tipo B
Potenza nominale 3 kW

Forno di sinterizzazione per laboratorio odontotecnico

Caratteristica Specifica Beneficio
Vassoio a doppio strato Fino a 80 unità Produzione massima giornaliera
Temperatura massima 1600°C Adatto a tutti gli zirconi Cristallizzazione completa, colore stabile
Controllo PID + SCR Potenza di uscita precisa Nessun superamento, sicuro e stabile
Telecomando WiFi Monitoraggio telefono/PC Controllo in tempo reale, flusso di lavoro migliore
Schermo LCD touchscreen da 7″ Interfaccia utente grafica Programmazione facile, meno errori
Oltre 100 programmi personalizzati Archiviazione per flussi di lavoro Funziona con tutti i marchi di zirconia
Riscaldamento a 40°C/min Modalità veloce Ottimo per casi urgenti
Protezione da surriscaldamento + sensore termocoppia di tipo B Sparo affidabile senza sorveglianza

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